三氟化氮NF₃是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體和清洗劑。

1）IC方面：使用三氟化氮作為化學蒸氣沉積箱清洗劑,與全氟烴相比,可減少污染物排放量,同時顯著提高清洗速度,從而提高清洗設備能力約30%。

2）LCD方面：三氟化氮用作蝕刻劑,也用于液晶顯示器 (LCD)的加工。

3）太陽能電池方面：三氟化氮作為蝕刻和清洗氣體在太陽能電池制造行業廣泛應用。

三氟化氮NF₃工藝流程：將氟化氫、氟化氫銨等原材料混合形成熔融狀態的電解液，在電解槽中進行電解，主產品三氟化氮進入冷阱進行收集。通過精餾除去雜質，精餾后的產品由精品罐收集檢測合格后進行充裝。三氟化氮能強烈刺激眼睛、皮膚和呼吸道粘膜，腐蝕組織，與還原劑能發生強烈反應引起爆炸，儲存和運輸中存在嚴格標準，需采用鋼瓶、管束集裝箱等包裝容器向客戶供應。

電子特氣三氟化氮用閥門

電子特氣:NF3

特氣閥門：BF200-CGA DISS640-3/4NGT；入口端規格3/4NGT；出口端規格CGA DISS640

電子特氣：BrF5、BrF3、HF、NF3

特氣閥門：BF200-CGA670-3/4NGT；入口端規格3/4NGT；出口端規格CGA670

BF200-CGA670-PZ27.8；入口端規格PZ27.8；出口端規格CGA670